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RTV涂层染污后憎水性迁移影响因素的研究
被引:19
作者:
徐志钮
律方成
李嫚
李和明
董亮
王亚男
机构:
[1] 华北电力大学生物质发电成套设备国家工程实验室
来源:
关键词:
室温硫化;
染污;
憎水性;
迁移;
影响因素;
D O I:
10.13296/j.1001-1609.hva.2011.04.007
中图分类号:
TM216 [绝缘子和套管];
学科分类号:
摘要:
研究室温硫化(room temperature vulcanization,RTV)硅橡胶涂层染污后憎水性迁移及其影响因素对RTV的应用具有指导意义。笔者以盐和灰的混合物模拟现场污秽,通过静态/动态接触角法表征憎水性,研究了迁移时间、温度、湿度、盐类型、灰类型、盐密、灰密对RTV涂层憎水性迁移速度的影响。结果表明:随着迁移时间的增加憎水性逐渐变好,迁移完全样本的接触角大于洁净样本;随温度增加迁移速度变快,且温度越高速度增加越快;随相对湿度增加迁移速度减慢,迁移所需时间非线性增大;ZnSO4迁移速度最快,NaNO3、NaCl、CaSO4相近;灰为硅藻土时污层的迁移速度快于高岭土的;随盐密/灰密(污秽度)的增加迁移速度有下降的趋势。
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