结构参数F与部分气态化合物标准生成焓的相关性研究

被引:16
作者
杨锋
罗明道
屈松生
机构
[1] 西南师范大学化学化工学院!重庆400715,武汉大学化学系!武汉430072,武汉大学化学系!武汉430072
关键词
结构参数F; 标准生成焓; 相关性;
D O I
暂无
中图分类号
O641.1 [化学键理论];
学科分类号
070304 ; 081704 ;
摘要
用三个分别代表分子中原子联结情况、顶点原子结构特点和相邻原子成键情况的矩阵相乘得到一个无量纲数值的方法定义并计算了拓朴指数Fo用F分别相关了16个硅卤化物(不含氢)、32个硅卤化物(含氢)、16个钛卤化物、32个硅卤化物和钛卤化物(不含氢)、48个硅卤化物(含氢)和钛卤化物、44个卤代甲烷的标准生成焓,其相关系数均在0.97以上。F能较好地处理CH4、SiH4等Randic-Kier指数不能处理的分子,并和传统的隐氢图相反,并考虑了氢对分子结构和性质的贡献.
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