共 8 条
X射线干涉光刻光束线关键光学元件热-结构耦合分析
被引:1
作者:
龚学鹏
卢启鹏
机构:
[1] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室
来源:
关键词:
X射线干涉光刻;
热分析;
数值模拟;
同步辐射;
D O I:
10.19650/j.cnki.cjsi.2015.10.024
中图分类号:
O434.1 [X射线];
学科分类号:
070207 ;
0803 ;
摘要:
为了保证上海光源X射线干涉光刻光束线的稳定性,减小热变形对实验结果的影响,对X射线干涉光刻光束线的3个关键光学元件——偏转镜、聚焦镜和精密四刀狭缝进行热-结构耦合分析。首先,计算偏转镜、聚焦镜和精密四刀狭缝所承载的功率密度;然后,建立其有限元模型;最后,获得光学元件的温度场和热变形的结果。结果表明,偏转镜和聚焦镜采用间接水冷方式可有效抑制热变形,冷却后的最大面形误差分别为7.2μrad和9.2μrad。精密四刀狭缝未冷却时,刀片组件温度介于271.56~273.27℃,刀口热变形为0.19 mm,直线导轨热变形为0.08 mm;经过铜辫子冷却后,刀片组件温度降至22.24~23.94℃,刀口热变形降至0.2μm,直线导轨热变形降至0.1μm;采用影像法和接触探头法测试后,刀口直线度、平行度和重复精度均满足技术要求。偏转镜、聚焦镜和精密四刀狭缝的热变形通过间接水冷和铜辫子的冷却方式可以得到很大程度的抑制,进而保证光斑质量。
引用
收藏
页码:2347 / 2354
页数:8
相关论文