T91钢表面复合电沉积Ni/CrAl镀层的工艺研究

被引：8

作者：

刘光明 ^{[1
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刘德强 ^{[1
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汪元奎 ^{[2
]}

任永峰 ^{[3
]}

邱佳红 ^{[2
]}

田继红 ^{[1
]}

机构：

[1] 南昌航空大学材料科学与工程学院

[2] 东方锅炉集团有限公司材料研究所

[3] 宝鸡石油钢管有限责任公司钢管研究院

来源：

表面技术 | 2012年 / 01期

关键词：

复合电沉积; Ni/CrAl; 镀层;

D O I：

暂无

中图分类号：

TQ153.2 [合金的电镀];

学科分类号：

082804 [农业电气化与自动化];

摘要：

采用复合电沉积法在T91钢表面制备Ni/CrAl镀层,研究了CrAl微粒在镀层中的含量与搅拌强度、镀液pH值、电流密度及温度的关系,确定最佳工艺参数为:电流密度2.5～4.5A/dm2,pH值4～4.5,温度30℃。采用该工艺制备了较高CrAl含量的复合镀层,并对工艺参数影响复合电沉积的机理进行了简单探讨。

引用

页码：61 / 63

页数：3

共 7 条

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