等离子体对钽表面渗氮处理的影响

被引：6

作者：

张德元

曾卫军

林勤

陆德平

李放

许兰萍

机构：

[1] 北京科技大学,江西省科学院,北京科技大学,江西省科学院,江西省科学院,江西省科学院北京江西省科学院,江西南昌,江西南昌,北京,江西南昌,江西南昌,江西南昌

来源：

稀有金属材料与工程 | 2001年 / 03期

关键词：

钽; 等离子体; 表面硬化;

D O I：

暂无

中图分类号：

TG156.82 [];

学科分类号：

080201 ; 080503 ;

摘要：

采用ＳＥＭ，ＸＲＤ等手段对钽在氢与氮等离子体中形成的表面层进行了分析。试验表明，在外界参数相同的情况下，Ｈ＋Ｎ等离子体的存在改变了Ｔａ表面在Ｈ－Ｏ－Ｎ气氛中的反应路径，使反应产物由无等离子体时的Ｔａ２Ｏ５变成了Ｔａ６Ｎ２．５７，因此处理后的表面粗糙度比无等离子体时下降了一个数量级；对等离子体的作用机理进行了探讨。认为是等离子体的存在改变了介质成分和Ｔａ表面附近形成的“阴极鞘层”与Ｔａ表面相互作用抑制了粗糙的Ｔａ２Ｏ５形成。

引用

页码：198 / 202

页数：5

共 17 条

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