光温交叉处理对小麦紫黄质脱环氧化酶活性及其热耗散能力的影响

被引：10

作者：

陈华新 ^{[1
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陈玮 ^{[1
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姜闯道 ^{[2
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高辉远 ^{[1
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邹琦 ^{[1
]}

机构：

[1] 山东农业大学生命科学学院

[2] 中国科学院植物研究所

来源：

植物生态学报 | 2008年 / 05期

关键词：

叶黄素循环; 紫黄质脱环氧化酶; 光抑制; 热耗散;

D O I：

暂无

中图分类号：

Q946 [植物生物化学];

学科分类号：

071001 ;

摘要：

为了探讨温度和光强是如何影响离体紫黄质脱环氧化酶(VDE)活性,阐明依赖叶黄素循环的热耗散与VDE活性关系,该文以小麦(Triticum aestivum)为材料,研究了不同光强(200、500、900和1200μmol·m–2·s–1)和不同温度(4、25、38和45℃)交叉处理对小麦叶片VDE活性以及依赖叶黄素循环热耗散能力的影响。结果表明:小麦叶片VDE活性在30℃最高,说明30℃是小麦叶片VDE体外条件下的最适温度;不同光强处理下小麦叶片VDE活性基本一致。与室温(25℃)处理的叶片相比,低温(4℃)处理的叶片VDE活力没有明显下降,而高温(45℃)处理则导致了叶片VDE活性急剧下降。小麦叶片热耗散(NPQ)以及依赖叶黄素循环的热耗散(qE)均随着处理光强的增加不断上升,而qE/NPQ则随光强增加略微下降,在1200μmol·m–2·s–1光强条件下qE/NPQ则急剧下降。该研究揭示VDE活性与依赖叶黄素循环热耗散能力的指标qE/NPQ的变化有一定的相关性,但不完全一致。并针对此问题进行了讨论。

引用

页码：1015 / 1022

页数：8

共 12 条

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