用PASCA及磁天平技术研究WO在氧化铝表面的分散过程

被引：13

作者：

罗锡辉

孙万付

宋纯范

李廷玉

机构：

[1] 抚顺石油化工研究院

来源：

催化学报 | 1990年 / 02期

关键词：

分散过程; Al; 表面性质; WO3; 氧化铝; 铝化合物;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

首次用PASCA(化学分析正电子谱)及磁天平技术研究WO3在2γ-Al2O3表面的分散过程及γ-Al2O3的表面性质。结果表明:WO3在γ-Al2O3表面最大单层分散量为0.120g WO3/100m2。这一结果只相当于文献报导理论值(0.189g WO3/100m2)的64％。还发现γ-Al2O3表面存在强和弱两类不同的中心:Sk和Sts,它们分别与WO3作用生成不同稳定程度的“表面相互作用复合物”:WO3-Sk和WO3-Sts。提出γ-Al2O3表面可划分为两个区域:可吸附区A和隐蔽区S。这两个区域的比例大小既取决于γ-Al2O3本身的性质,也取决于吸附分子的性质及大小。WO3首先吸附在可吸附区A中表面能最高的Sk中心上,然后再吸附到表面能较低的Sts中心,直到铺满整个可吸附区为止。

引用

页码：115 / 120

页数：6

共 4 条

[1] WO3在γ-Al2O3表面的分散状态和最大分散量 [J].