MoO3在不同来源的γ-Al2O3表面上单层分散的研究

被引:17
作者
刘英骏
谢有畅
李册
邹志扬
唐有祺
机构
[1] 北京大学物理化学研究所
关键词
孔容; 孔体积; Al2O3; MoO3;
D O I
暂无
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学科分类号
摘要
MoO3与不同制备方法和来源的γ-Al2O3(包括η-Al2O3)干混、焙烧制备的样品,或者用浸渍、焙烧制备的样品,通过X光衍射测得的MoO3最大分散量都与按密置单层模型计算得到的结果(每100米2γ-Al2O3表面0.117克MoO3,即4.9×1018Mo原子/米2)相近。这样可以通过X光衍射测定MoO3在每克γ-Al2O3上的最大分散量而得到γ-Al2O3的比表面。比表面和孔容的研究结果也支持MoO3在γ-Al2O3表面呈密置单层分散的模型。
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共 1 条
[1]   X光衍射法测定MoO在γ-AlO表面的单层分散量 [J].
刘英骏 ;
谢有畅 ;
明晶 ;
刘军 ;
唐有祺 .
催化学报, 1982, (04) :262-267