脉冲高能量密度等离子体法制备TiN薄膜及其摩擦磨损性能研究

被引：21

作者：

刘元富

张谷令

王久丽

刘赤子

杨思泽

机构：

[1] 中国科学院物理研究所

[2] 中国科学院物理研究所北京

[3] 北京

来源：

物理学报 | 2004年 / 02期

关键词：

脉冲高能量密度等离子体; TiN膜; 显微组织; 耐磨性;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

利用脉冲高能量密度等离子体技术在室温条件下在 4 5号钢基材上制备出了超硬耐磨TiN薄膜 .利用XRD ,XPS ,AES ,SEM等手段分析了薄膜的成分及显微组织结构 ,并测试了薄膜的硬度分布及摩擦磨损性能 .结果表明 :薄膜主要组成相为TiN ,薄膜组织致密、均匀 ,与基材之间存在较宽的混合界面 ;薄膜硬度高 ,在干滑动磨损实验条件下具有优异的耐磨性及较低的摩擦系数

引用

页码：503 / 507

页数：5

共 4 条

[1] 脉冲高能量密度等离子体表面改性AlN膜的形成和结构 [J].