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减反、防静电、抗电磁辐射膜的研制
被引:5
作者
:
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
李芳
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
林永昌
机构
:
[1]
北京理工大学光电工程系!北京,北京理工大学光电工程系!北京
来源
:
光学技术
|
2001年
/ 05期
关键词
:
金属Cu膜;
减反;
防静电;
抗电磁辐射;
CMT;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O484.4 [薄膜的性质];
学科分类号
:
070204
[等离子体物理]
;
摘要
:
金属膜具有复折射率N =n -ik ,同时又具有金属的导电特性。采用含有一层金属Cu的膜系代替原有的ITO透明导电膜来制作应用于CMT的减反、防静电、抗电磁辐射膜。经过理论分析 ,计算机辅助设计 ,最后进行实验验证 ,提出了一种全新的制作减反、防静电、抗电磁辐射膜的方法。测量结果验证了方法的可行性
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页码:406 / 407
页数:2
相关论文
共 2 条
[1]
OHM RESISTIVITY OF ELECTROLESS COPPER LAYERS AS A FUNCTION OF THEIR THICKNESSES
[J].
RADOEVA, M
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV SOFIA,DEPT PHYS CHEM,BU-1126 SOFIA,BULGARIA
UNIV SOFIA,DEPT PHYS CHEM,BU-1126 SOFIA,BULGARIA
RADOEVA, M
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
RADOEV, B
.
JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE,
1995,
30
(09)
:2215
-2219
[2]
极薄薄膜光学特性与微结构的研究(Ⅰ)——光学常数和微结构的联系
[J].
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
徐静江
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
唐晋发
.
激光与红外,
1990,
(01)
:31
-36
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共 2 条
[1]
OHM RESISTIVITY OF ELECTROLESS COPPER LAYERS AS A FUNCTION OF THEIR THICKNESSES
[J].
RADOEVA, M
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV SOFIA,DEPT PHYS CHEM,BU-1126 SOFIA,BULGARIA
UNIV SOFIA,DEPT PHYS CHEM,BU-1126 SOFIA,BULGARIA
RADOEVA, M
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
RADOEV, B
.
JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE,
1995,
30
(09)
:2215
-2219
[2]
极薄薄膜光学特性与微结构的研究(Ⅰ)——光学常数和微结构的联系
[J].
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
徐静江
;
论文数:
引用数:
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机构:
唐晋发
.
激光与红外,
1990,
(01)
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