折射率可调疏水型SiO2光学薄膜的制备研究

被引：8

作者：

马建华

吴广明

魏建东

程银兵

孙琪

沈军

王珏

机构：

[1] 同济大学波耳固体物理研究所

来源：

原子能科学技术 | 2002年 / Z1期

关键词：

溶胶凝胶; SiO2疏水薄膜; 表面修饰; 氨处理;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB43 [薄膜技术];

学科分类号：

0805 ;

摘要：

以正硅酸乙酯 (TEOS)为有机醇盐前驱体 ,采用溶胶凝胶技术 ,通过控制制备条件 ,结合三甲基氯硅烷 (TMCS)对SiO2 胶粒表面的修饰过程 ,制备出折射率可调的疏水型SiO2 薄膜。对薄膜采用了不同的后处理方式 ,研究了氨和水蒸气混合气体热处理技术对薄膜疏水性能的影响。采用椭偏仪、FTIR和接触角测试仪对薄膜的折射率、红外特性、接触角等的测试研究表明 :疏水型SiO2 薄膜的折射率可在1 3 5～ 1 2 0之间连续可调 ,与传统热处理相比 ,混合气氛热处理使薄膜的折射率略有增加 ,在所研究的范围内折射率平均增加 0 0 2左右 ;SiO2 胶粒表面的亲水性OH基团可基本被非活性CH3 基团代替 ,薄膜的疏水能力得到进一步提高 ;接触角由未作表面修饰时的 40°左右增加到表面修饰并结合混合气氛热处理的 13 7°左右

引用

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