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锡磨盘定偏心平面研抛中材料去除模拟
被引:4
作者:
高宏刚
曹建林
张红霞
殷伯华
机构:
[1] 中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室!长春,中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室!长春,超精密加工技术国防科技重点实验室!北京,超精密加工技术国防科技重点实验室!北京
来源:
关键词:
锡;
抛光;
超精密抛光;
平面;
模拟计算;
D O I:
10.19650/j.cnki.cjsi.2000.01.024
中图分类号:
TG580.692 [抛光];
学科分类号:
摘要:
本文使用超精密平面研磨机及锡磨盘进行超光滑表面的抛光研究。平面抛光中 ,锡磨盘表面的形貌和加工状况直接影响被加工工件的表面平面度。本文基于 Preston方程 ,建立了在定偏心抛光条件下 ,被加工材料的去除模型。针对锡盘开有同心圆等沟槽的表面加工状况 ,提出了一种计算材料有效去除的算法 ,计算了工件的表面去除误差 ,对抛光后工件表面形貌提出理论预测
引用
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