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Ga掺杂ZnO电子结构的密度泛函计算
被引:28
作者
:
张富春
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机构:
西北大学电子科学系,西北大学电子科学系,西北大学电子科学系,西北大学电子科学系,西北大学电子科学系陕西西安,延安大学物理与电子信息学院,陕西延安,陕西西安,陕西西安,陕西西安,陕西西安
张富春
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机构:
邓周虎
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阎军锋
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机构:
王雪文
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机构:
张志勇
机构
:
[1]
西北大学电子科学系,西北大学电子科学系,西北大学电子科学系,西北大学电子科学系,西北大学电子科学系陕西西安,延安大学物理与电子信息学院,陕西延安,陕西西安,陕西西安,陕西西安,陕西西安
来源
:
功能材料
|
2005年
/ 08期
关键词
:
ZnO;
密度泛函;
电子结构;
掺杂;
光吸收边;
Burstein-Moss移动;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN304 [材料];
学科分类号
:
080906
[电磁信息功能材料与结构]
;
摘要
:
根据密度泛函理论(DFT),采用“总体能量-平面波”超软赝势方法,对不同的Ga掺杂浓度的ZnO晶体几何结构进行了优化,从理论上给出了Ga掺杂ZnO晶体结构参数及性质,为ZnO材料的掺杂改性研究提供了理论依据。计算了Ga掺杂情况下ZnO晶体的总体能量、能带结构、总体态密度、分波态密度。分析了Ga掺杂对ZnO晶体电子结构和光学吸收带边的影响。
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页数:5
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2001,
(12)
:741
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半导体杂志,
1998,
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