ZnO:Al绒面透明导电薄膜的制备及分析

被引:9
作者
薛俊明 [1 ,2 ]
黄宇 [1 ,2 ]
熊强 [3 ]
马铁华 [4 ]
孙建 [1 ,2 ]
赵颖 [1 ,2 ]
耿新华 [1 ,2 ]
机构
[1] 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所&天津市重点实验室
[2] 光电信息技术科学教育部重点实验室
[3] 河北省信息产业厅唐山无线电管理分局
[4] 仪器科学与动态测试教育部重点实验室
关键词
中频脉冲磁控溅射; ZnO:Al(ZAO)薄膜; 绒面结构;
D O I
暂无
中图分类号
TM24 [导电材料及其制品];
学科分类号
0805 ; 080502 ; 080801 ;
摘要
利用中频脉冲磁控溅射方法,采用Al掺杂(质量百分比2%)的Zn(纯度99.99%)金属材料为靶材制备平面透明导电ZnO:Al(ZAO)薄膜。利用湿法腐蚀方法,将平面ZAO薄膜在0.5%的稀盐酸中浸泡一定时间后,形成表面凹凸起伏的绒面结构。研究了平面ZAO薄膜的结构特性以及衬底温度、溅射功率和腐蚀时间对绒面ZAO薄膜表面形貌的影响,并对腐蚀前后薄膜的电阻变化进行了分析。结果表明:高温、低功率条件下制备的绒面ZAO薄膜表面形貌较好,在硅薄膜太阳电池中具有潜在的应用前景。
引用
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页码:701 / 705
页数:5
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