流动注射-邻菲啰啉协同催化化学发光法测定痕量的铜

被引：10

作者：

张悟铭

钟时明

胡和金

龚建议

机构：

[1] 武汉大学化学系,武汉大学化学系,武汉大学化学系,武汉大学化学系武汉,,武汉,,武汉,,武汉,

来源：

分析化学 | 1989年 / 10期

关键词：

铜、流动注射分析; 邻菲哕啉; 化学发光;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

本文拟订了邻菲啰啉-CTMAB-H2O2-Co（Ⅱ）-Cu（Ⅱ）协同催化化学发光体系流动注射测定痕量Cu（Ⅱ）的新方法。方法的检出限为8×10-12g/ml Cu（Ⅱ）,线性范围为1×10-10-4×10-8g/ml Cu（Ⅱ）,相对标准偏差为0.9％分析速度为160样/小时。本法用于头发和水样中Cu（Ⅱ）的测定取得了满意的结果。

引用

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