全方位离子注入与沉积技术及其工业机的研制

被引：5

作者：

王浪平

王小峰

汤宝寅

机构：

[1] 哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室

来源：

核技术 | 2007年 / 12期

关键词：

全方位离子注入与沉积; 工业机; 功能;

D O I：

暂无

中图分类号：

TG174.444 [真空镀与气相镀法];

学科分类号：

080503 ;

摘要：

全方位离子注入与沉积(Plasma immersion ion implantation and deposition,PIIID)技术发展到现在,已经逐步走向工业化应用。本文介绍了全方位离子注入与沉积技术的原理,探讨了全方位离子注入与沉积工业机应该具备的功能,介绍了研制成功的全方位离子注入与沉积设备的结构和实施效果,其脉冲阴极弧等离子体源沉积速率达到2.9(?)/s,IGBT固体开关调制器输出电压达到10 kV,能够一次处理多个工业零件。

引用

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