真空自励研磨抛光工艺的研究

被引：2

作者：

张忠玉

王权陡

周军

周德俭

不详

机构：

[1] 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室!吉林长春

[2] 驻二二八厂军代表室!吉林长春

来源：

关键词：

真空自励抛光盘; 超薄镜; 抛光; 数字控制;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH706 [制造工艺];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

详细地阐述了真空自励研磨抛光盘的工作方式、基本原理 ,并在对 12 0× 12 0mm厚径比小于 1/ 6 0的超薄镜面实际加工中 ,成功解决了磨头自身重力对工件变形的影响 ,降低了元件在加工中支撑要求 ,有效地解决了超薄元件的数控加工难题。

引用

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