两种陶瓷薄膜的透射电镜研究

被引：1

作者：

罗庆洪 ^{[1
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陆永浩 ^{[1
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娄艳芝 ^{[2
]}

王燕斌 ^{[1
]}

杨会生 ^{[1
]}

机构：

[1] 北京科技大学材料物理与化学系

[2] 北京航空材料研究院

来源：

现代科学仪器 | 2009年 / 04期

关键词：

显微结构; 硬质薄膜; 磁控溅射;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH74 [光学仪器];

学科分类号：

080401 [精密仪器及机械];

摘要：

采用高分辨透射电镜技术对两种硬质薄膜(AlTiN多层薄膜和AlCN非晶薄膜)样品的显微结构进行了研究。结果表明:在高速钢基体上制备的AlTiN多层薄膜由两种氮含量交替变化的膜层构成,尽管交替的两层中氮含量不同,但每一单层都为纳米晶包含在非晶点阵中的纳米复合结构,不同之处是低氮含量层中纳米晶密度较小;生长在单晶硅基体(100)晶面上的非晶AlCN薄膜,在膜基界面处硅基体上出现应力畸变层,应力畸变层厚度很薄,约3～5个原子层。比较Si的应变层和非应变区的傅里叶变换结果,片状的应变层产生形状效应,使得傅里叶变换图中斑点沿垂直于片状应变层方向拉长成线状。

引用

页码：15 / 17

页数：3

共 4 条

[1]

中频磁控溅射周期性变电流(Ti，Al)N多层薄膜的结构与性能 [J].

罗庆洪 ;

孙丽丽 ;

杨会生 ;

王燕斌 ;

陆永浩 ;

于栋利 .

现代科学仪器, 2008, (04) :97-101

[2]

Synthesis and characterization of superhard aluminum carbonitride thin films [J].

Ji, AL ;

Ma, LB ;

Liu, C ;

Li, CR ;

Cao, ZX .

[3]

Nitrogen flow rate dependence of the growth morphology of TiAlN films deposited by reactive sputtering.[J].J.J. Jeong;S.K. Hwang;C.M. Lee.Surface & Coatings Technology.2002,

[4]

Synthesis and structural properties of AlCNO composite thin films.[J].Jiang Ning;S. Xu;K.N. Ostrikov;Chai Jianwei;Li Yinan;Koh Mei Ling;S. Lee.Thin Solid Films.2001, 1

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