X射线荧光分析中谢尔曼方程逆问题的求解(理论影响系数法和基本参数法)

被引：6

作者：

谭秉和

王桂华

机构：

[1] 北京科技大学化学系!北京,北京科技大学化学系!北京

来源：

光谱学与光谱分析 | 2000年 / 03期

关键词：

X射线荧光分析; 迭代法; 影响系数法; 基本参数法;

D O I：

暂无

中图分类号：

O657.34 [Ｘ射线荧光分析法];

学科分类号：

摘要：

本文首先在理论分析基础上 ,建立多元素样品的重量分数 Ci、X射线荧光相对强度 Ri 与基体效应因子 Fi 的代数关系。然后 ,按照此关系导出两种求解谢尔曼方程逆问题的方法 ,即理论影响系数法和基本参数法。并用这两种方法分析了 6个耐热钢标样 ,主量、常量元素的平均相对分析误差 <0 .5 %,对低含量轻元素Si、P、 S的分析也取得良好的结果

引用

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