65nm工艺及其设备

被引：2

作者：

翁寿松

机构：

[1] 无锡市罗特电子有限公司

来源：

关键词：

65nm工艺; 设备; 芯片;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305 [半导体器件制造工艺及设备];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

介绍了65nm工艺及其设备。它包括光刻工艺与193nmArf/浸入式光刻机、超浅结工艺与中电流/高电流离子注入机、铜互连工艺与PVD/ALD设备、CMP工艺与低应力CMP设备和清洗工艺与无损伤清洗设备等。

引用

页码：18 / 20+48 +48

页数：4

共 7 条

[1] 193nm浸入式光刻技术独树一帜 [J].

翁寿松 .

[2] 低k绝缘层及其设备 [J].

翁寿松 .

[3] 研发≤65nm工艺的最新进展 [J].

缪彩琴 ;

翁寿松 .

[4] 193nm光刻技术延伸方法 [J].

翁寿松 .

[5] 65nm/45nm工艺及其相关技术 [J].

翁寿松 .

[6] 铜互连及其相关工艺 [J].

翁寿松 .

[7] 光学光刻的波前工程 [J].

翁寿松 .