化学机械抛光中抛光垫修整的作用及规律研究

被引：5

作者：

胡伟 ^{[1
]}

魏昕 ^{[1
]}

谢小柱 ^{[1
]}

黄平 ^{[2
]}

机构：

[1] 广东工业大学机电工程学院

[2] 部队

来源：

金刚石与磨料磨具工程 | 2007年 / 05期

基金：

广东省自然科学基金;

关键词：

化学机械抛光; 抛光垫; 修整; 金刚石颗粒;

D O I：

10.13394/j.cnki.jgszz.2007.05.016

中图分类号：

TQ164 [人造宝石、合成宝石的生产];

学科分类号：

0817 ;

摘要：

抛光垫修整是化学机械抛光的重要过程之一。修整后抛光垫的性能主要由修整器的性能和相关的工艺参数决定。本文介绍常用金刚石修整器的颗粒性能、胎体材料及相关工艺参数,总结金刚石修整器在不同条件下对修整性能的影响规律,发现:金刚石颗粒的类型影响修整效率,RAS越大,修整效率越高;颗粒尺寸的增大有利于提高修整效率;粘结力的增大,可以提高修整效率和使用寿命;颗粒的均匀排列有助于抛光垫表面沟槽的形成;使用陶瓷作为胎体材料,可以提高使用寿命;修整压力及转速的增大,可以提高修整效率;修整温度会对抛光垫的沟槽、微孔及硬度产生影响,温度的升高,可以改善修整质量;修整密度越大,抛光垫的磨损率越高。最后对金刚石修整器的发展趋势做出展望。

引用

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页数：6

共 6 条

[1]

化学机械抛光中抛光垫的作用研究.[D].熊伟.广东工业大学.2006, 09

[2] 化学机械抛光中抛光垫的研究 [J].

魏昕 ;

熊伟 ;

黄蕊慰 ;

袁慧 .

金刚石与磨料磨具工程, 2004, (05) :40-43

[3]

Effects of conditioning temperature on polishing pad for oxide chemical mechanical polishing process.[J].Nam-Hoon Kim;Gwon-Woo Choi;Jin-Seong Park;Yong-Jin Seo;Woo-Sun Lee.Microelectronic Engineering.2005, 3

[4] Self-conditioning of encapsulated abrasive pad in chemical mechanical polishing [J].