IBAD制备非晶碳膜与CrN镀层的耐磨性能比较及机理分析

被引：6

作者：

杜军 ^{[1
]}

田林海 ^{[2
]}

机构：

[1] 装甲兵工程学院再制造工程系

[2] 西安交通大学材料学院

来源：

关键词：

离子束辅助溅射沉积(IBAD); 耐磨镀层; 磨损机理;

D O I：

10.13922/j.cnki.cjovst.2006.03.023

中图分类号：

TH117 [机械摩擦、磨损与润滑];

学科分类号：

摘要：

采用离子束辅助溅射沉积(IBAD)法,在高速钢基体上制备非晶碳膜(-αC)及CrN镀层,对两者的耐磨性能分析比较,并对其耐磨机理进行分析。结果表明:非晶碳膜的耐磨性能优于CrN镀层;文中讨论了摩擦系数和硬度对镀层耐磨损性能的影响,并通过分析动态膜基结合强度,证明两种镀层的磨损由不同磨损机理引起。

引用

页码：255 / 258

页数：4

共 3 条

付永辉 ;

朱晓东 ;

何家文 ;

YANG Shi-cai .

[2] 离子束辅助磁控溅射沉积TiN薄膜的研究 [J].

黄鹤 ;

王学刚 ;

朱晓东 ;

陈华 ;

何家文 .

[3] 滚动接触疲劳法评定硬质薄膜的结合强度 [J].

朱晓东 ;

黄鹤 ;

胡奈赛 ;

何家文 .