离子束辅助磁控溅射沉积TiN薄膜的研究

被引：32

作者：

黄鹤

王学刚

朱晓东

陈华

何家文

机构：

[1] 西安交通大学,西安交通大学,西安交通大学,西安交通大学,西安交通大学陕西西安,陕西西安,陕西西安,陕西西安,陕西西安

来源：

稀有金属材料与工程 | 2002年 / 03期

关键词：

薄膜; TiN; 磁控溅射; 结合强度; 磨损;

D O I：

暂无

中图分类号：

TB43 [薄膜技术];

学科分类号：

0805 ;

摘要：

利用三离子束辅助沉积设备 ,以离子束辅助沉积、磁控溅射和离子束辅助磁控溅射几种工艺在GCr15基体上沉积TiN薄膜。实验结果表明 :离子束辅助磁控溅射有效地提高了薄膜的硬度、耐磨性和耐蚀性 ,改善了膜基结合力。

引用

页码：204 / 207

页数：4

共 6 条

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