诺卡氏菌形放线菌β-甘露聚糖酶的化学修饰及活性中心的研究

被引：48

作者：

吴襟

何秉旺

机构：

[1] 中国科学院微生物资源前期开发国家重点实验室,中国科学院微生物研究所!北京,中国科学院微生物资源前期开发国家重点实验室,中国科学院微生物研究所!北京

来源：

中国生物化学与分子生物学报 | 2000年 / 02期

关键词：

β-甘露聚糖酶; 诺卡氏菌形放线菌; 化学修饰; 活性中心;

D O I：

10.13865/j.cnki.cjbmb.2000.02.016

中图分类号：

Q55 [酶];

学科分类号：

070307 [化学生物学];

摘要：

分别用 PCMB、NEM、N- AI、NBS等对诺卡氏菌形放线菌β- D-甘露聚糖酶进行化学修饰 ,证明蛋白上的巯基、酪氨酸残基及色氨酸残基是维持酶活性的必需基团 .在加入少量底物后 ,β- D-甘露聚糖酶的最大荧光发射峰从天然状态下的 336nm处蓝移至 332 nm,且峰强度有所增大 .这表明其色氨酸残基隐藏在蛋白内部的疏水区域 .通过对该酶圆二色性扫描光谱的分析 ,表明蛋白内部有二硫键的存在 ;通过巯基乙醇化学修饰的研究 ,表明二硫键是影响该酶热稳定性的一个重要因素 .在蛋白的各种二级结构中 ,α-螺旋、β-折叠、β-转角、自由卷曲的比例分别为 1 6.6%、2 5.4%、2 0 .5%和 37.5% .

引用

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