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重要无机化学反应.[M].陈寿椿编;.上海科学技术出版社.1963,
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PZT铁电薄膜湿法刻蚀技术研究
被引：38
作者：
郑可炉
褚家如
鲁健
李恒
机构：
[1] 中国科学技术大学精密机械与精密仪器系
[2] 中国科学技术大学精密机械与精密仪器系 安徽合肥
[3] 安徽合肥
来源：
关键词：
锆钛酸铅;
PZT薄膜;
湿法刻蚀;
微图形化;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN304 [材料];
学科分类号：
080906 [电磁信息功能材料与结构];
摘要：
介绍了一种刻蚀效果良好的PZT薄膜的湿法刻蚀方法。在分析了刻蚀液成分对刻蚀效果影响的基础上,选择体积比为1∶2∶4∶4的BHF/HCl/NH4Cl/H2O溶液作为刻蚀液,刻蚀速率为0.016μm/s。实验表明,刻蚀得到的PZT薄膜图形表面无残留物,侧蚀比小(1.5∶1),侧面倾角约60°。刻蚀液对光刻胶和PZT薄膜底电极Pt的选择性好,该工艺适用于MEMS领域中PZT薄膜的微图形化。
引用
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页码：209 / 212
页数：4
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