脉冲偏压电弧离子镀Ti/TiN纳米多层薄膜的结构与硬度

被引：6

作者：

李谋 ^{[1
]}

李晓娜 ^{[1
]}

林国强 ^{[1
]}

张涛 ^{[2
]}

董闯 ^{[1
]}

闻立时 ^{[1
]}

机构：

[1] 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室

[2] 北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室

来源：

材料热处理学报 | 2005年 / 06期

关键词：

脉冲偏压; 电弧离子镀; Ti/TiN纳米多层; 硬质薄膜;

D O I：

10.13289/j.issn.1009-6264.2005.06.012

中图分类号：

TB383.1 []; TG174.44 [金属复层保护];

学科分类号：

070205 ; 080501 ; 1406 ; 080503 ;

摘要：

采用脉冲偏压电弧离子镀设备在高速钢基体上沉积Ti/TiN纳米多层硬质薄膜,通过仅改变偏压幅值的方法进行对比实验。XRD分析和薄膜断截面SEM形貌显示出薄膜的纳米多层组织结构;硬度测试表明纳米多层薄膜硬度随脉冲偏压升高而升高,在-900V时超过同等条件制备的TiN单层薄膜,硬度高达34.1GPa;分析表明硬度的提高主要与脉冲偏压工艺对薄膜组织的改善有关;用脉冲偏压电弧离子镀可以制备纳米多层硬质薄膜,并且在工艺控制上相对简单。

引用

页码：49 / 52

页数：4