化学发光抑制法测定抗坏血酸

被引：9

作者：

马泉莉

金永平

尤洪涛

马会民

机构：

[1] 中国科学院化学研究所分子科学中心,浙江省环境保护科学设计研究院,北京市烟草专卖局,中国科学院化学研究所分子科学中心北京,浙江杭州,北京,北京

来源：

光谱学与光谱分析 | 2002年 / 06期

关键词：

化学发光; 抗坏血酸; 过氧化氢; 7-(4,6-二氯-1,3,5-三嗪氨基)-4-甲基香豆素;

D O I：

暂无

中图分类号：

O657.3 [光化学分析法（光谱分析法）];

学科分类号：

摘要：

利用抗坏血酸对DTMC H2 O2 化学发光体系的抑制作用 ,研究了对抗坏血酸进行间接测定的可能性。试验发现 ,化学发光猝灭率 (R)与抗坏血酸浓度在 1 0× 10 - 7～ 8 0× 10 - 6 mol·L- 1 范围内呈线性关系 ,检出限达到 8 0× 10 - 8mol·L- 1 (S N =3)。对 1 0× 10 - 6 mol·L- 1 抗坏血酸进行 10次平行测定 ,其化学发光强度猝灭率相对标准偏差为 4 6 %。该猝灭体系不需要额外的掩蔽剂 ,方法简单、选择性好 ,可直接应用于一些食品中微量抗坏血酸的测定。

引用

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