溅射压强对TiN/SiNx纳米多层膜微观结构及力学性能的影响

被引：2

作者：

安涛 ^{[1
,2
]}

王丽丽 ^{[1
]}

文懋 ^{[2
]}

郑伟涛 ^{[2
]}

机构：

[1] 长春大学理学院

[2] 吉林大学材料科学与工程学院

来源：

物理学报 | 2011年 / 60卷 / 01期

关键词：

TiN/SiNx多层膜; 界面宽度; 表面形貌;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];

学科分类号：

摘要：

利用磁控溅射方法在不同溅射压强条件下制备了TiN/SiNx纳米多层膜.多层膜的微观结构及力学性能分别用X射线衍射仪、原子力显微镜及纳米压痕仪来表征.结果表明随着溅射压强的增大,多层膜的界面变模糊,TiN层的择优取向由(200)晶面过渡到(111)晶面.与此同时,多层膜的表面粗糙度增大,硬度和弹性模量随溅射压强的增大而减小.多层膜力学性能的差异主要是由于薄膜的周期性结构及致密度存在差异所致.

引用

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