掺氮二氧化钛薄膜的介质阻挡放电化学气相沉积及其结构性能研究

被引：4

作者：

李喆

张溪文

韩高荣

机构：

[1] 浙江大学硅材料国家重点实验室

来源：

真空科学与技术学报 | 2008年 / 04期

关键词：

介质阻挡放电化学气相沉积; 掺氮TiO2薄膜; 光催化性; 亲水性;

D O I：

10.13922/j.cnki.cjovst.2008.04.009

中图分类号：

O484.1 [薄膜的生长、结构和外延];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

采用介质阻挡放电化学气相沉积(DBD-CVD)法,以四异丙醇钛(TTIP)作为钛源,氨气(NH3)和笑气(N2O)分别作为氮源的气相反应先驱体,成功制备了不同掺杂量的掺氮二氧化钛(TiO2)薄膜。SEM、XRD、XPS和UV-Vis透射光谱研究表明:所制得的掺氮二氧化钛薄膜均为锐钛矿相,氮源的引入对TiO2薄膜晶粒成长、晶体取向、表面形貌影响很大,并促使光吸收限红移,提高了薄膜在可见光照射下的光催化效率,并改善了薄膜表面的亲水性能。且NH3掺氮效果整体好于N2O。

引用

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