扩展微透镜数值孔径范围的阶梯光刻热熔法研究

被引：4

作者：

许乔

杨李茗

舒晓武

杨国光

机构：

[1] 成都精密光学工程研究中心,浙江大学现代光学仪器国家重点实验室

来源：

光学学报 | 1998年 / 08期

关键词：

微透镜阵列，微光学，光刻胶，制作与测试;

D O I：

暂无

中图分类号：

TH74 [光学仪器];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

在微透镜阵列的光刻热熔制作法中，临界角效应严重影响了微透镜的制作范围和面形质量。在对临界角效应定性研究的基础上，提出了用阶梯光刻热熔法来扩展热熔型微透镜阵列的数值孔径范围。实验结果表明，采用这一方法制作的微透镜，其单元孔径范围扩展为５０～９００μｍ，相对口径范围扩大到为Ｆ／１～Ｆ／１０，并有效地改善了临界角效应对大孔径微透镜面形质量的影响。

引用

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