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膜厚控制误差对软X射线多层膜性能影响的分析
被引:11
作者:
王占山
机构:
[1] 同济大学精密光学工程技术研究所物理系上海
来源:
关键词:
软X射线;
多层膜;
膜厚控制误差;
反射率;
D O I:
暂无
中图分类号:
TB43 [薄膜技术];
学科分类号:
0805 ;
摘要:
针对影响多层膜性能的关键因素———膜厚控制误差进行了全面的分析计算,指出影响多层膜性能的主要误差是仪器本身的系统偏差,它使多层膜的峰值反射波长偏离设计值,使得制作出的多层膜无法满足要求;镀膜过程中的随机误差使多层膜的反射率降低,但不影响多层膜峰值反射率波长的位置,因此,在制作多层膜过程中,不但要严格控制镀膜时的系统误差,而且要控制随机误差。
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