不同光照强度对槲蕨叶绿素荧光参数·色素含量及抗性生理的影响

被引:7
作者
张晓燕
胡禅娜
林霞
蒋春霞
刘鹏
机构
[1] 浙江师范大学植物学重点实验室
关键词
槲蕨; 光照; 叶绿素荧光参数; 色素含量; 抗性生理;
D O I
10.13989/j.cnki.0517-6611.2007.34.059
中图分类号
S567.239 [];
学科分类号
1008 ;
摘要
在不同光照条件下,测定了槲蕨孢子叶叶绿素荧光参数、叶绿素a、叶绿素b、叶绿素a+b、类胡萝卜素含量及过氧化物酶(POD)、过氧化氢酶(CAT)、丙二醛(MDA)和可溶性糖(SS)含量的变化。研究表明:在强光3 000 lx下Fo比1 0002、000 lx大,Fm各处理间相差不大,Fv/Fm在3 000 lx下明显减小。在1 000和2 000 lx下处理46、d后,ETR随光照强度的增加而增加,光抑制被消除。不同光照处理7d后3 000 lx叶绿素及类胡萝卜素含量下降幅度较大,1 000和2 000 lx差异不明显,POD和CAT活性、MDA、SS含量都在3 000 lx下最高。由此可见,3 000 lx光强对槲蕨生长不利,在实际生产中进行槲蕨人工栽培时应避免强光。
引用
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页码:11006 / 11008
页数:3
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