VLSI集成电路参数成品率及优化研究进展

被引：7

作者：

郝跃

荆明娥

马佩军

机构：

[1] 西安电子科技大学微电子研究所

[2] 西安电子科技大学微电子研究所陕西西安

[3] 陕西西安

来源：

电子学报 | 2003年 / S1期

关键词：

VLSI设计方法学; 参数成品率; 最优化设计;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN405 [制造工艺];

学科分类号：

080903 ; 1401 ;

摘要：

VLSI的参数成品率是与制造成本和电路特性紧密相关的一个重要因素 ,随着集成电路 (IC)进入超深亚微米发展阶段 ,芯片工作速度不断增加 ,集成度和复杂度提高 ,而工艺容差减小的速度跟不上这种变化 ,因此参数成品率的研究越来越重要 .本文系统地讨论了参数成品率的模型和设计技术研究进展 ,分析不同技术的特点和局限性 .最后提出了超深亚微米 (VDSM)阶段参数成品率设计和成品率增强面临的主要问题及发展方向

引用

页码：1971 / 1974

页数：4