FDLC薄膜的化学结构对光学性能的影响

被引：1

作者：

刘雄飞

张德恒

齐海兵

机构：

[1] 中南大学物理科学与技术学院

来源：

应用光学 | 2007年 / 01期

关键词：

氟化类金刚石薄膜; 等离子体增强化学气相沉积(PECVD); 光学带隙; 沉积温度;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN304 [材料];

学科分类号：

0805 ; 080501 ; 080502 ; 080903 ;

摘要：

研究氟化类金刚石(FDLC)薄膜化学结构对光学性能的影响,用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法在玻璃基底上沉积氟化类金刚石(FDLC)薄膜,用俄歇能谱、傅里叶红外光谱(FT IR)、紫外-可见光分光光度计(UV-V IS)对薄膜进行分析。分析结果表明:沉积薄膜是典型的类金刚石结构,薄膜中氟主要以C-F2键存在;随着沉积温度的提高,C-F2含量先增后减;随着F含量的增加,FDLC薄膜的sp3含量减少,sp2含量增加;光学带隙与sp2键含量密切相关,sp2含量越大,薄膜的光学带隙越小。

引用

页码：51 / 54

页数：4

共 4 条

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