并行模拟退火算法优化衍射光学元件设计

被引：8

作者：

邬融 ^{[1
]}

赵东峰 ^{[1
]}

戴亚平 ^{[2
]}

机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所

[2] 中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所

来源：

光学学报 | 2010年 / 30卷 / 09期

关键词：

傅里叶光学; 模拟退火; 光束整形; 并行处理;

D O I：

暂无

中图分类号：

O436.1 [干涉与衍射];

学科分类号：

摘要：

模拟退火(SA)是解决复杂非线性优化问题的好工具,开发其并行性也成为近些年的研究热点和方向。针对衍射光学元件(DOE)的束匀滑应用,结合消息传递接口(MPI)并行编程方法,开发并实现了具有良好收敛效果和并行效率的SA算法。在8个中央处理器(CPU)的小型并行计算平台上进行了入射口径310mm、出射20阶超高斯0.4mm×0.8mm聚焦光斑的优化设计,使用不到原来1/6的时间就能获得比原串行算法更好的匀滑效果,从而验证了该并行SA算法的快速有效性。

引用

页码：2544 / 2548

页数：5

共 6 条

[1] 多台阶衍射光学元件的工艺优化 [J].