二元光学元件的制作及其误差分析

被引：7

作者：

李思涛

叶嘉雄

阮玉

徐启阳

郭志霞

机构：

[1] 华中科技大学光电子工程系!武汉

来源：

光电子技术与信息 | 2000年 / 05期

关键词：

二元光学; 光刻; 掩模; 误差;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN25 [波导光学与集成光学];

学科分类号：

0702 ; 070207 ;

摘要：

详细介绍了二元光学元件制作的光刻技术和一些新的制作工艺，包括薄膜沉积法、激光束或电子束直接写入法和准分子激光加工法．针对用于ＣＯ２激光器模式优化的二元光学反射镜，分析了元件制作误差，包括掩模对准误差、台阶刻蚀深度误差和台阶刻蚀宽度误差对谐振腔振荡模式的影响．

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