TiN/AlN纳米多层膜的研究

被引：13

作者：

李戈扬

施晓蓉

吴亮

许俊华

戎咏华

张惠娟

机构：

[1] 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室!上海

[2] 上海交通大学国家教委高温材料及高温测试开放实验

来源：

材料工程 | 1999年 / 11期

关键词：

纳米多层薄膜; 反应溅射; 调制结构; 显微硬度;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.43 [];

学科分类号：

摘要：

采用反应溅射法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜，并通过ＸＲＤ，ＨＲＥＭ和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究。结果表明：ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜有较好的调制结构。小调制周期时，ＡｌＮ调制层以ＦＣＣ结构在ＴｉＮ调制层上外延生长。调制周期增大，ＡｌＮ调制层中出现六方晶型。ＴｉＮ／ＡｌＮ的显微硬度随调制周期的减小单调上升，并在调制周期＝２ｎｍ时达到最高值ＨＫ３２９３。硬度的增高极有可能是小调制周期时立方ＡｌＮ的形成所致

引用

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