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掺铂TiO氧敏薄膜的制备和性能
被引：10
作者：
郑嘹赢
徐明霞
徐廷献
机构：
[1] 天津大学材料科学与工程学院!天津
来源：
关键词：
铂薄膜;
TiO;
氧敏感性;
肖特基势垒;
金属-半导体接触;
氧敏薄膜;
电阻型;
温度特性;
氯铂酸;
甲醛溶液;
吸附浓度;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN304.92 [];
学科分类号：
0805 ;
080501 ;
080502 ;
080903 ;
摘要：
以钛酸丁酯和无水乙醇分别为原料和溶剂，添加适量稳定剂制成稳定溶胶，用浸涂法在Ａｌ２Ｏ３ 基片上制备ＴｉＯ２ 薄膜，经１０００℃Ｈ２ 气氛下还原制得ＴｉＯ２－ ｘ薄膜．最后在氯铂酸甲醛溶液中浸泡得到掺铂薄膜．实验结果表明掺铂薄膜在８００℃下具有良好的氧敏感性和重复性，薄膜在Ｎ２ 气氛下具有良好的电阻温度特性．本文分析了铂在薄膜中的作用原理．
引用
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页数：4
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