氮气流量对中频非平衡反应磁控溅射制备CrAlN薄膜性能的影响

被引：16

作者：

吕艳红 ^{[1
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孔庆花 ^{[1
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吉利 ^{[1
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李红轩 ^{[1
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刘晓红 ^{[1
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陈建敏 ^{[1
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周惠娣 ^{[1
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机构：

[1] 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室

[2] 中国科学院研究生院

来源：

中国表面工程 | 2011年 / 24卷 / 04期

关键词：

磁控溅射; CrAlN薄膜; 微观结构; 硬度; 腐蚀;

D O I：

暂无

中图分类号：

TG174.44 [金属复层保护];

学科分类号：

摘要：

采用中频非平衡反应磁控溅射技术制备CrAlN薄膜,研究了氮气分压对CrAlN薄膜的沉积速率、薄膜成分、微观结构、机械性能和耐腐蚀性能的影响,并与CrN薄膜的性能进行了比较。研究表明,相比较CrN薄膜而言,CrAlN薄膜的硬度高,结构致密,耐腐蚀性好。随着氮气流量的升高,CrAlN薄膜沉积速率降低,Cr/Al比率升高;薄膜中CrN(200)衍射峰强度逐渐增强,六方结构的AlN相逐渐消失;薄膜的粗糙度由39 nm降低至10 nm,并且腐蚀电位升高,耐腐性增强。当氮气流量为53 mL/min时,CrAlN薄膜具有最佳的硬度和优良的耐腐蚀性能。

引用

页码：7 / 12

页数：6

共 12 条

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