半导体致冷恒温浴槽

被引:4
作者
昝育德
李瑞云
王俊
林兰英
机构
[1] 中国科学院半导体研究所!北京,中国科学院半导体研究所!北京,中国科学院半导体研究所!北京,中国科学院半导体研究所!北京
关键词
恒温槽; 高精度; 温控仪; 半导体致冷器; 温差电致冷器; 液体介质; 液体绝缘材料; 控温精度; 内冷式; 搅拌器; 化工机械; 致冷; 制冷; 恒温浴槽; 恒温装置;
D O I
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学科分类号
摘要
本文介绍一种用半导体致冷器件制作的恒温槽.该装置采用了高精度温控仪,磁耦合搅拌器以及适当的保温材料.可以很方便地将容器内液体介质及被控部件控制在- 30°~50℃之间,其精度小于 005℃.它可以广泛地应用于半导体工业及其他要求高精度恒温控制的装置中
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共 1 条
[1]   γ-Al2O3/Si(100)薄膜高真空MOCVD异质外延生长 [J].
昝育德 ;
王俊 ;
韩秀峰 ;
王玉田 ;
王维民 ;
王占国 ;
林兰英 .
半导体学报, 1998, (12) :7-10