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PYREX玻璃湿法凹槽腐蚀研究
被引：4
作者：
林雁飞
郑志霞
张丹
冯勇建
机构：
[1] 厦门大学机电工程系
[2] 厦门大学萨本栋微机电中心
来源：
关键词：
PYREX玻璃;
湿法腐蚀;
曝光;
D O I：
10.13250/j.cnki.wndz.2005.01.009
中图分类号：
TP204 [材料];
学科分类号：
080502 ;
摘要：
在玻璃上刻蚀凹槽作为腔体,是半导体制造工艺中一个新方法。本文讨论了玻璃湿法腐蚀的工艺方法,通过清洗、涂胶、光刻、腐蚀等工艺的反复实验,分析了涂胶厚度与甩胶速率的关系,腐蚀深度随腐蚀时间的变化情况,并总结出玻璃刻蚀过程中的重要参数和注意事项。
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