日光温室黄瓜根系分布特征及其对土壤水分环境的响应

被引：16

作者：

范凤翠 ^{[1
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张立峰 ^{[2
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李志宏 ^{[1
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石玉芳 ^{[1
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贾建明 ^{[1
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刘胜尧 ^{[2
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刘俊波 ^{[2
]}

机构：

[1] 河北省农林科学院农业信息与经济研究所

[2] 河北农业大学

来源：

安徽农业科学 | 2013年 / 41卷 / 11期

关键词：

土壤水分; 根系分布; 温室; 黄瓜;

D O I：

10.13989/j.cnki.0517-6611.2013.11.094

中图分类号：

S642.2 [黄瓜]; S626 [蔬菜设施园艺];

学科分类号：

090202 [蔬菜学];

摘要：

[目的]为了明确日光温室蔬菜土壤生境调控范围。[方法]分析不同生育期不同土壤水分条件下黄瓜根系垂直分布特征。[结果]不同生育期土壤水分处理对黄瓜根系垂直分布有一定的调节作用,但影响较小;不同处理0～25 cm土层黄瓜根系分布比例均可达全部根重的99%以上,根系的最深分布范围可达30 cm;黄瓜根系分布对土壤水分环境的敏感性存在时期差异,初瓜期根系对水分反应敏感,较低的土壤水分有促使根系向深层发育的趋势。[结论]蔬菜"以水调根"管理具有限制性。调控浅根性蔬菜土壤生境更应关注横向调控措施的实现。

引用

页码：4808 / 4810

页数：3

共 15 条

[1]

灌水量对温室自根与嫁接黄瓜根系分布及水分利用效率的影响 [J].