灌溉下限与嫁接方式对温室黄瓜根系生长及水分利用效率的影响

被引：19

作者：

杨志刚 ^{[1
]}

崔世茂 ^{[1
]}

陈之群 ^{[2
]}

孔祥悦 ^{[3
]}

高丽红 ^{[3
]}

机构：

[1] 内蒙古农业大学农学院

[2] 临沂大学生命科学学院

[3] 中国农业大学蔬菜系

来源：

灌溉排水学报 | 2011年 / 30卷 / 04期

基金：

国家自然科学基金重点项目;

关键词：

灌溉下限; 嫁接黄瓜; 根系分布; 产量; 水分利用效率;

D O I：

10.13522/j.cnki.ggps.2011.04.033

中图分类号：

S642.2 [黄瓜]; S626 [蔬菜设施园艺];

学科分类号：

090202 ;

摘要：

以黄瓜为试验材料,采用膜下暗灌供水,研究控制不同灌溉下限对温室黄瓜自根苗、单根嫁接苗和双根嫁接苗根系分布、产量、品质及水分利用效率的影响。结果表明,嫁接和降低灌水下限,均使黄瓜根系总长度增加;不同处理对黄瓜品质的影响差异不明显;在灌溉下限为85%时,与自根苗相比,双根嫁接苗可以显著增加产量17%,并提高水分利用效率17%。

引用

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页数：4

共 7 条

[1] 双砧木嫁接对温室黄瓜生长、产量和品质的影响 [J].