多弧离子镀TiN涂层拉应力的探讨

被引：11

作者：

孙伟

宫秀敏

叶卫平

张覃轶

杨守银

机构：

[1] 武汉汽车工业大学材料科学与工程系,武汉汽车工业大学材料科学与工程系,武汉汽车工业大学材料科学与工程系,武汉汽车工业大学材料科学与工程系,武汉铜材厂湖北武汉,湖北武汉,湖北武汉,湖北武汉,湖北武汉

来源：

关键词：

TiN涂层; 多弧离子镀; 拉应力;

D O I：

10.16577/j.cnki.42-1215/tb.2002.09.027

中图分类号：

TG174.444 [真空镀与气相镀法];

学科分类号：

090303 [农业农村环境保护与治理（农业环境保护）];

摘要：

多弧离子镀TiN涂层有着广泛的应用 ,但拉应力的存在影响了它的使用性能。本文对影响涂层拉应力的因素及产生原因进行了分析 ,并从基体材料的沉积工艺等方面提出了一些减小拉应力、提高涂层使用性能的方法

引用

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