TiN/AlN 纳米多层膜的制备及力学性能

被引：6

作者：

李戈扬

施晓蓉

张流强

吴亮

李鹏兴

机构：

[1] 上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室

[2] 中国科学院上海冶金研究所

来源：

关键词：

纳米多层薄膜；反应溅射；调制结构；显微硬度;

D O I：

10.16183/j.cnki.jsjtu.1999.02.010

中图分类号：

O484.2,O484.1 [];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

采用多靶反应磁控溅射法制备了ＴｉＮ／ＡｌＮ纳米多层膜，并通过ＸＲＤ、ＴＥＭ和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究．结果表明，反应磁控溅射法制得的纳米多层膜调制界面平直清晰；薄膜的硬度随其调制周期Λ的减小而单调增加，硬度在Λ＝２ｎｍ时达到最大值ＨＫ３２．９３ＧＰａ．

引用

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