Reflectivity of Mo/Si multilayer systems for EUVL

被引：20

作者：

Louis, E ^{[1
]}

Yakshin, AE ^{[1
]}

Görts, PC ^{[1
]}

Abdali, S ^{[1
]}

Maas, ELG ^{[1
]}

Stuik, R ^{[1
]}

Bijkerk, F ^{[1
]}

Schmitz, D ^{[1
]}

Scholze, F ^{[1
]}

Ulm, G ^{[1
]}

Haidl, M ^{[1
]}

机构：

[1] EURATOM, FOM, Inst Plasma Phys, NL-3430 BE Nieuwegein, Netherlands

来源：

EMERGING LITHOGRAPHIC TECHNOLOGIES III, PTS 1 AND 2 | 1999年 / 3676卷

关键词：

Mo/Si multilayer coatings; normal-incidence reflectivity; electron-beam deposition; EUVL;

D O I：

10.1117/12.351079

中图分类号：

TP3 [计算技术、计算机技术];

学科分类号：

0812 ;

摘要：

Normal-incidence reflectivity data of Mo/Si multilayer systems are being reported for the Extreme UV wavelength range.

引用

页码：844 / 845

页数：2

共 6 条