Comment on "Control of epitaxial growth for SrBi2Ta2O9 thin films" [Appl. Phys. Lett. 72, 665 (1998)]

被引：15

作者：

Lettieri, J ^{[1
]}

Weber, CI ^{[1
]}

Schlom, DG ^{[1
]}

机构：

[1] Penn State Univ, Dept Mat Sci & Engn, University Pk, PA 16802 USA

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.122561

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：2057 / 2058

页数：2

共 8 条

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