Robust optical delivery system for measuring substrate temperature during molecular beam epitaxy

被引：32

作者：

Thibado, PM ^{[1
]}

Salamo, GJ

Baharav, Y

机构：

[1] Univ Arkansas, Dept Phys, Fayetteville, AR 72701 USA

[2] CI Syst Ltd, Migdal Haemek, Israel

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1999年 / 17卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1116/1.590508

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

页码：253 / 256

页数：4

共 5 条

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