Layer Area, Few-Layer Graphene Films on Arbitrary Substrates by Chemical Vapor Deposition

被引：147

作者：

Reina, Alfonso

Jia, Xiaoting

Ho, John

Nezich, Daniel

Son, Hyungbin

Bulovic, Vladimir

Dresselhaus, Mildred S.

Kong, Jing

机构：

来源：

NANO LETTERS | 2009年 / 9卷 / 08期

关键词：

D O I：

10.1021/nl901829a

中图分类号：

O6 [化学];

学科分类号：

0703 ;

摘要：

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共 1 条

[1] Large Area, Few-Layer Graphene Films on Arbitrary Substrates by Chemical Vapor Deposition [J].

Reina, Alfonso ;

Jia, Xiaoting ;

Ho, John ;

Nezich, Daniel ;

Son, Hyungbin ;

Bulovic, Vladimir ;

Dresselhaus, Mildred S. ;

Kong, Jing .

NANO LETTERS, 2009, 9 (01) :30-35