EFFECT OF GAS PRESSURE IN RF ION SOURCES

被引：1

作者：

KAWASAKI, S

OGAWA, K

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1967年 / 6卷 / 07期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.6.900

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：900 / &

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NUCLEAR INSTRUMENTS & METHODS, 1959, 4 (03) :121-128

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OGAWA, K ;

KAWASAKI, S .

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1967, 6 (02) :279-&